Результаты поиска для: Специальные технологические установки
Комплект оборудования для твердофазного синтеза, включая: планетарную мельницу; прибор для обработки металлов в атмосфере аргона; пилу алмазную настольную
Предназначен для твердофазного синтеза высокотемпературных сверхпроводников
Установка Helios NanoLab 660 для нанолитографии
Установка Helios NanoLab 660 находится на этапе ввода в эксплуатацию.
Установка плазмохимической очистки УПХОА-5300
Предназначена для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности (с блоком генерации сверхчистого кислорода (99,999%) Кулон-10К).
Установка совмещения и экспонирования лазерная, включая генератор изображения лазерный Heidelberg mPG101, с антивибрационным гранитным столом; блоками нанесения и сушки фоторезиста.
Предназначена для лазерной литографии для производства микросхем
Оптическая установка совмещения и экспонирования SUSS MJB4
Предназначена для производства микросхем.
Для маленьких и хрупких подложек используется экспонирование при низковакуумном контакте.
При этом виде контактирования снижается нагрузка по подложку. Достигается разрешение, превышающее параметры при мягком и жестком контакте.
Устройство центрифугирования фоторезиста WS-400A (Laurell Technologies)
Предназначена для изготовления наноструктур на основе фоторезиста
Установка для напыления пленок PLD/MBE модель PVD-2300 (PVD)
Установка предназначена для напыления пленок методом лазерного испарения в вакууме с использованием эксимерного лазера
Установки термического напыления пленок ВУП-2
Установка предназначена для напыления плёнок методом термического испарения в вакууме: алюминия (1 установка), индия и свинца (2я установка).
Установка импульсного лазерного напыления ВТСП ВУ-500 гетероструктур с модулем скоростной фильтрации
Установка предназначена для напыления пленок методом лазерного испарения в вакууме
